Tynnfilmlasere med sin utmerkede strålekvalitet og høye optisk-til-optiske konverteringseffektivitet har blitt stadig mer utbredt i felt som industriell produksjon og grunnleggende vitenskapelig forskning. Spesielt har tynnseksjons ultrarask laserteknologi vist seg å være den beste løsningen for å realisere stor pulsenergi, ultrakort pulsbredde og høy gjennomsnittseffekt, som også er kjent som "kronjuvelen" i laserindustrien, og er av stor betydning for high-end produksjon, ekstrem ultrafiolett lysgenerering og attosecond science.
I lang tid har det tyske Trafotek utelukkende ledet forskning og produktisering av tynnfilmlasere, og har oppnådd stor kommersiell suksess. I løpet av de siste 4 årene, under støtte fra det nasjonale nøkkel-FoU-programmet "New Display and Strategic Electronic Materials" ledet av prof. Ruan Shuangchen fra Shenzhen University of Technology, har prosjektteamet jobbet sammen med Shanghai Laser Plasma Research Institute of Chinese Academy of Engineering Physics, Jiangsu Normal University, Daqi Laser, Institute of Semiconductor Research of Chinese Academy of Sciences, Jiangsu Third Generation Semiconductor Research Institute og andre enheter for å utføre teknisk forskning og produksjon av tynnfilmlasere. Tredje generasjons Semiconductor Research Institute og andre enheter for å utføre teknisk forskning, overvinne presisjonsbehandlingen av tynnfilmkrystaller, design og pakking av krystallkjøleledersystem, 48-slagpumpesystem, høystabilitet, regenerativ forsterkningsresonanshulrom og multi -kanalforsterkning og andre viktige kjerneteknologier, den første i Kina som oppnådde en diameter på > 20 mm Yb: YAG tynnfilm krystallemballasje, utvikling av 48-kilowattklassepumpesystem.
I februar 2024 realiserte gruppen et stort gjennombrudd for ultraraske tynnflakelasere i kilowattklassen i Kina: pulsutgang maksimal gjennomsnittlig effekt på 1,075 kW, pulsbredde på 7ps, repetisjonsfrekvens på 500-800kHz justerbar, maksimal pulsenergi på 2,1mJ, strålekvalitet på M2<1.5, spot ellipticity of 0.96, for the China's attosecond light source, extreme UV lithography, new energy vehicles, 3C electronics and chip processing, aerospace and other high-end manufacturing industries, to provide advanced laser light source.
