Denne lasergiganten fikk et hemmelig besøk fra TSMC-sjefen

I følge koreanske medieoppslag besøkte TSMC-sjef Wei Zhejia ASMLs hovedkvarter i Holland 26. mai, og besøkte samtidig den industrielle lasergiganten 100 år av Tysklands Tonspeed.
Weis oppholdssted ble avslørt av Christophe Fouquet, administrerende direktør i ASML, og Nicola Leibinger-Kammüller, administrerende direktør i Thomson, via sosiale medier.
TSMC sies å vurdere introduksjonen av High NA EUV-utstyr for 1,6nm-prosessen etter A16, som skal produseres i volum i andre halvdel av 2026, og bruke det eksisterende Low NA EUV-utstyret inntil da, som er kritisk for sub -2nm-brikkeprosesser.
I følge de siste nyhetene, ASMLs nye High NA EUV litografisk plateproduksjonshastighet på 400 til 500 wafere per time, dagens standard EUV 200 wafere per time 2-2.5 ganger hastigheten, det vil si en økning på 100 % til 150 %, noe som vil øke produksjonskapasiteten ytterligere og redusere kostnadene.
I fjor var Intel den første i bransjen som fikk ASML for sitt tilpassede design av flere High NA EUV-utstyr. Industrien forventer nå at Intel fullt ut vil utnytte denne nye generasjonen litografi i sin 14A (1,4nm) halvlederprosess.
Tidligere hadde TSMC på sin side sagt at de ikke ville kjøpe ASMLs nyeste High-NA EUV-utstyr, som de anså for dyrt til å gi økonomisk mening før 2026, men den ideen ser ut til å vakle nå.
Hovedpersonen i dette hemmelige besøket var ikke bare ASML, men også lasergiganten TRUMPF fra Tyskland. TRUMPF ble grunnlagt i 1923, og feiret sin 100-årsjubileumsmilepæl i fjor.
Trumpf Group er den eneste produsenten i verden som kan levere lyskilder for ekstrem ultrafiolett (EUV) litografi. Derfor er EUV litografivirksomhet også et av fokusene i Trumpfs utvikling for tiden.
Faktisk har Trafigura investert i litografilasergenereringssystemer i mer enn 16 år. Siden 2005 har Trafigura samarbeidet med Cymer Inc. i USA, og har fortsatt å utdype samarbeidet etter at Cymer ble kjøpt opp av ASML. For dette formålet har TRUMPF etablert et spesialisert datterselskap, TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing, med fokus på utvikling og produksjon av EUV-lasere. I 2015 bestilte ASML 15 EUV-litografiverktøy fra TRUMPF, og markerte EUV-litografivirksomheten som midtpunktet i Thomsons utvikling.
I følge Trafiguras tidligere annonserte rapport for regnskapsåret 2022/2023 (som avsluttes 30. juni 2023), nådde det totale salget 5,4 milliarder euro, opp 27 % fra år til år.
Blant dem nådde salget av EUV-virksomhet 971 millioner euro, en økning på 22,2 % fra år til år. Hovedsakelig for å gi ekstreme ultrafiolette (EUV) enheter gir ultra-høyeffekt karbondioksidlasere som brukes til å drive EUV-utslippet i ASMLs enorme litografiverktøykildemodul.
For vårt land er det fortsatt ingen bedrift som kan masseproduksjon av EUV litografi lyskilde. Ifølge de siste nyhetene, 14. mai, har imidlertid Shanghai Institute of Optics and Precision Machinery ved det kinesiske vitenskapsakademiet (SIPM), i forbindelse med Harbin Institute of Technology (HIT) og Shanghai Institute of Technology (SIT), gjort et stort gjennombrudd innen ekstrem ultrafiolett (EUV) og myk røntgenstråler, og har vellykket realisert den strukturelle virvellysmodulasjonen. Denne milepælen fremskritt, ikke bare markerer Kinas ekstreme ultrafiolette lyskilde teknologi har tatt et viktig skritt fremover, mer innenlandsk litografi forskning og utvikling har fjernet kjerneteknologiske barrierer.
I tillegg er noen innenlandske bedrifter, som AOP Optronics, Fujing Technology, etc., også aktivt involvert i utvikling og produksjon av fotolitografirelaterte teknologier. Blant dem er hovedaksjonæren i AOP fotoelektriske Changchun Institute of Optical Machinery ved det kinesiske vitenskapsakademiet, som er involvert i den innenlandske litografiske lyskilden, optisk del av FoU-arbeidet;
Og Fuching Technology er en teknologisk enhjørning av litografi oppstrøms materialer under CAS, som har utviklet KBBF, et ikke-lineært optisk krystallmateriale, fullt navn KBeNbBFO, som kan konvertere laserlys til dypt ultrafiolett laserlys med 176 nm bølgelengde.
Denne dyp-ultrafiolette laserlyskilden har ekstremt høy energi og svært høy konsentrasjon, så den kan brukes til å lage dyp-ultrafiolette solid-state lasere. Og innen brikkeproduksjon kan det forbedre presisjonen til eksisterende fotolitografi med mer enn 10 ganger, og dermed forbedre effektiviteten og presisjonen til brikkeproduksjonen betydelig.
For øyeblikket, selv om disse innenlandske fremskrittene ennå ikke har nådd masseproduksjonen av EUV litografilyskilder, har de lagt grunnlaget for Kinas videre utvikling innen litografiteknologi.