Nylig, departementet for vitenskap og teknologi "14. femårsplan" nasjonal nøkkel forskning og utvikling program "ny skjerm og strategiske elektroniske materialer" nøkkel spesielle "krystall tynn film behandling og en ny generasjon av gain enhet forberedelse" prosjektet Kick-off møte og implementeringsprogram diskusjonsmøte ble holdt i Shenzhen University of Technology.
Lansering av nasjonalt nøkkel-FoU-program Daqo Laser deltar i forskning og utvikling av høyenergi-tynnfilmlasere
Prosjektet er orientert mot den nasjonale etterspørselen etter avansert lyskilde med høy effekt, høyenergi ultrakort puls laser, for krystallplatebehandling og en ny generasjon av forsterkningsenhetsforberedelser av viktige vitenskapelige og tekniske problemstillinger for å utføre forskning, samarbeidsforskning, utvikling av uavhengige immaterielle rettigheter og funksjoner i høyenergiark med ultrarask laserteknologi og industrielle applikasjoner.
Det er rapportert at prosjektet ledes av Shenzhen University of Technology, sammen med Chinese Academy of Engineering Physics Shanghai Laser Plasma Research Institute, Jiangsu Normal University, Chinese Academy of Sciences Semiconductor Research Institute, Jiangsu Institute of Third Generation Semiconductor Research Institute påta seg.
Thin Disk Lasers ((TDL)) er en klasse av potensielle høyeffektlaserkilder. Forsterkningsmediet gjøres om til en veldig tynn skive-lignende krystallstruktur (diameter på ca. 10-25 mm, tykkelse på ca. 100-300 μm), som betydelig forbedrer varmeavledningseffektiviteten til krystallen, og tillater en svært høy pumpeeffekttetthet uten for høy temperaturøkning i krystallen, og forbedrer effektivt strålekvaliteten til utgangslaseren. Siden konseptet tynnfilmlaser ble foreslått av Adolf Giesen et al. ved Universitetet i Stuttgart, Tyskland, i 1994, har tynnfilmlasere blitt foretrukket av innenlandske og utenlandske forskningsinstitutter for deres unike strukturelle fordeler og utmerkede ytelsesytelser, og en rekke undersøkelser har blitt utført av forskjellige forskningsinstitusjoner på kontinuerlig og pulserende drift av tynnfilmlasere.
Med fordelene med utmerket strålekvalitet og effektiv optisk-til-optisk konverteringseffektivitet, har tynnfilmlasere blitt en av de ideelle løsningene for neste generasjon høyeffekt-, høyenergi-, høy-toppeffektlasere, og har blitt stadig mer utbredt i mange felt som industriell produksjon og grunnleggende vitenskapelig forskning. Imidlertid er de viktigste kjerneteknologiene som presisjonsbehandling av tynnfilmkrystaller, design og pakking av varmeavledersystemer og klargjøring av forsterkningsenheter utilstrekkelige i Kina, noe som alvorlig begrenser videreutviklingen av høyeffekts tynnfilm lasere.
Ekspertgruppen var enige om at utviklingen av tynnfilmlaser er av stor betydning for utviklingen av Kinas laserteknologi, og bekreftet fullt ut utviklingen av FoU og industrialisering av innenlandske tynnfilmlasere og kjerneenheter siden gjennomføringen av prosjektet, og enstemmig vedtatt å vedta demonstrasjonen av gjennomføringsplanen. Samtidig håper vi å fortsette å akselerere industrialiseringen av tynnfilmlasere, og bidra til Kinas avanserte produksjonsindustri.
